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X射线荧光镀层测量原理

来源:未知 作者:中国无损检测 人气: 发布时间:2019-08-08
摘要:X射线荧光 符合 DIN ISO 3497 和 ASTM B 568 标准的能量色散式 X 射线荧光分析 (XRFA) 测量方法: X 射线荧光分析的基础在于,当材料样品中的原子被初级 X 射线激发时,来自最内层电子层的电子将释放出来;所产生的空位由来自外层电子层的电子填充。 Atomic
X射线荧光
符合 DIN ISO 3497 和 ASTM B 568 标准的能量色散式 X 射线荧光分析 (XRFA)
 
测量方法:
X 射线荧光分析的基础在于,当材料样品中的原子被初级 X 射线激发时,来自最内层电子层的电子将释放出来;所产生的空位由来自外层电子层的电子填充。
 
Atomic model for the X-Ray Fluorescence Analysis method.
在电子跃迁的过程中,每种元素都会产生其特有的特征X射线荧光辐射。探测器可接收到该荧光辐射并能据此给出样品成分的相关信息。
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